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退火技术专题资料光盘
来源:互联网   发布日期:2011-09-09 13:55:54   浏览:4790次  

导读: 光盘编号:1000850 《退火专题资料光盘》包括专利技术全文资料632份。整套光盘收费520元,全国范围内可免费货到付款。请选择订购方式: (1)在线订购 点击此处 (2) 电话订购 技术编号 技术名称 (1000850-0266-0001)快速等温球化退火炉 [技术摘要]工效高、能耗...

  光盘编号:1000850 《退火专题资料光盘》包括专利技术全文资料632份。整套光盘收费520元,全国范围内可免费货到付款。请选择订购方式:
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     技术编号             技术名称
  (1000850-0266-0001) 快速等温球化退火炉
[技术摘要] 工效高、能耗低、加工质量高的快速等温球化退火炉,炉壳内设有链带动的辊棒运送机构、电加热器件和温度测控元件,炉壳内近进料端一区段设有燃油加热区并相应配设有燃油器;炉壳一端设有进料台,另一端设有出料台;燃油器上方设有与排烟管通连的吸烟罩;炉壳内工件加工区两侧设有砌砖墙体其内侧设有护栏,砌砖墙体与炉壳间设有保温层。本退火炉适用于各类轴承钢、工具钢或其它工业用钢的球化等温退火。

  (1000850-0502-0002) 用于器件特定填充以提高退火均匀性的结构和方法
[技术摘要] 公开了用于器件特定填充以提高退火均匀性的结构和方法。通过在晶片上分布具有不同半导体材料的填充结构,使得在每个区域内,最好在每个子区域内获得在不同半导体材料之间大致相同的比例和密度,从而获得均匀反射率。可选地,其也可以通过如下来实现,通过在晶片上分布包含一个或多个具有可变的不同半导体材料比例的混合填充结构的晶片填充结构,使得在每个区域内,最好在每个子区域内获得在不同半导体材料之间大致相同的比例。可选地,其也可以通过如下来实现,通过在晶片上分布包括具有不同厚度的半导体材料的填充结构,使得在每个区域内,最好在每个子区域内获得在不同厚度的半导体材料之间大致相同的总体比例。

  (1000850-0117-0003) 使用连续退火的罐用表面处理钢板的原板的制造方法
[技术摘要] 本发明是具有将含有c:0.1wt%以下,n:0.001~0.015wt%的低碳铝镇静钢的冷轧后的钢板使用连续退火在再结晶温度以上的温度加热、均热的工序、再结晶后以超过100℃/sec、不到300℃/sec的平均冷却速度一次冷却到350~480℃温度区域的工序,一次冷却后不再加热的过时效处理的工序和过时效处理后进行最终冷却并调质轧制的工序的,且在再结晶温度以上根据所希望的调质度变化均热温度的,不根据调质度大致规定一次冷却以后热循环的使用连续退火的罐用表面处理钢板的原板的制造方法。按照该方法使用小型、设备费便宜、简单的cal设备,不降低生产率和合格率,而且可廉价稳定地分别制造从软质材到硬质材的全范围调质度的原板。

  (1000850-0453-0004) 用于吹胀式铝板的连续退火炉
[技术摘要] 本发明涉及退火炉技术领域,尤其是一种用于吹胀式铝板的连续退火炉。具有穿过整个炉体1炉腔顶部的循环、悬挂式物料输送装置,输送装置由输送链轨道2、输送链3、可调间距的挂筐4和输送链马达8组成,炉体1两端设置有上下桥11,炉体1上设置有天然气燃烧器,温控装置,助燃风机6,循环风机7。这种吹胀式铝板的连续退火炉能耗小、效率高、退火质量稳定、生产周期短、工人劳动强度小。

  (1000850-0123-0005) 使用快速热处理的预退火/氧化联合步骤
[技术摘要] 一种使用快速热处理(rtp)的预退火/氧化联合步骤处理硅片,使之形成给定厚度的热氧化物,同时调节溶蚀区深度和整体微缺陷密度(bmd),该步骤包括:在氧化环境中、在环境压力下,将硅片暴露于受控温度下经过受控退火时间,以获得预选的热氧化物目标厚度,以适应预选的溶蚀区深度。

  (1000850-0070-0006) 连续退火冷轧薄钢板及其制法
[技术摘要] 一种深度压延性及二次加工抗脆性均优异的连续退火冷轧薄钢板,其组成见说明书所述。其中按特定公式计算出的、代表钛与硼的含量比的指数值(x)为9.2~11.2。所述钢板的制法为:对具有所述化学组成的钢坯进行热精轧,使压下率分配函数(y)满足另一特定公式;在880~920℃间完成精轧;盘绕热轧钢带;按累积压下率至少为70%冷轧该钢带;在750℃至ac3

  (1000850-0166-0007) 金属线材退火炉
[技术摘要] 本发明公开了一种金属线材退火炉,包括由下炉体、上炉体及其两侧的侧板围合而成的炉腔,设置在炉腔内的固定座,设置在固定座上的电加热管,设置在电加热管上方的固定座,及设置在固定座上的退火管,在所述下炉体底板的内侧设置有若干层保温板;所述下炉体与上炉体之间的炉腔被纵向分割成两列纵向的炉腔,其优点是:由于采用保温板及双层保温结构,因此,炉腔保温效果明显,保温时间更长,从而达到节约能源的效果;另外,由于采用双炉腔结构,可同时对不同的线材料进行退火。

  (1000850-0331-0008) 激光退火方法及激光退火装置
[技术摘要] 提供一种激光退火方法及激光退火装置。借助插入到光束整形器和基板之间的转像器的以光轴为中心的转动,将利用调制器进行时间调制、利用光束整形器整形为细长形状的光束的激光的纵向方向围绕光轴转动,在对基板上的多个方向进行退火时,使整形为细长形状的激光在基板上转动,承载基板的基座只在xy两个方向上移动。由此,就可以将进行过时间调制,并且整形为细长形状的连续振荡的激光,在不使基板转动的情况下进行高速扫描对半导体薄膜进行退火。

  (1000850-0495-0009) 光亮退火炉
[技术摘要] 本发明涉及一种光亮退火炉,包括一个用于将工件加热到预定的退火温度的加热室,一个用于将加热后的工件冷却到预定低温度的冷却室,所述的加热室和所述的冷却室均充满保护气体,并且该保护气体的压力大于大气压力,所述的加热室具有一个入口和出口,所述的加热室在位于入口处还设置有空气隔断区,该空气隔断区长度大于等于2米,该空气隔断区能够阻止空气进入到所述的加热室;通过设置大于等于2米的空气隔断区,这样即使在安装退火炉的房间内有穿堂风吹过,其强度也不能使其通过空气隔断区,所以通过设置此种空气隔断区,有效的防止了加热室内发生**的危险事件发生,同时也保障了操作人员的生命安全。

  (1000850-0479-0010) 浮法玻璃退火窑风冷装置
[技术摘要] 本发明涉及浮法玻璃退火窑风冷装置,其特征是退火窑顶部设置两台风机3、18,它们之间连有风管12,风管12上设置三个闸板阀13a、13、13b,闸板阀13a、13间连接上部主风管17,另一端和二级汇总管16相连,从退火窑内引出的一级汇总管8分别和二级汇总管16相连,闸板阀13、13b之间连接下部主风管4,它与退火窑5底部的横向分配管9相连。本发明的优点是:1.任一风机出现故障时,可关闭该风机的闸板阀,由另一台风机带动上、下部主风管工作。因此风机维修和窑内温度控制非常方便,它解决了退火窑c区温度过高这一多年来的顽疾;2.风机系统设在窑顶,避免了在地下建造风机房,简化了管路系统,降低了热能损耗。

  (1000850-0144-0011) 全氢气保护下的热轧不锈钢退火工艺
  (1000850-0008-0012) 罩式炉退火生产优化排产方法
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  (1000850-0192-0016) 轧制铜管的在线退火方法和设备
  (1000850-0314-0017) 一种耐高温的晶体退火装置
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  (1000850-0106-0019) 处理带材用的立式退火炉
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  (1000850-0568-0021) 连续退火炉自动刮砂机构
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  (1000850-0508-0028) 用于在晶片退火期间防止滑移位错的晶片支撑销以及使用其的晶片退火方法
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  (1000850-0620-0030) 钢材试样连续退火炉
  (1000850-0114-0031) 使基片上的微结构局部退火并由此构成器件的方法和系统
  (1000850-0084-0032) 针的恒流退火
  (1000850-0014-0033) 退火单晶片的制造方法及退火单晶片
  (1000850-0224-0034) 钟罩式退火炉
  (1000850-0190-0035) 一种避免冷轧带钢粘接的方法及无粘接罩式退火炉
  (1000850-0450-0036) 用于业务量矩阵估计的快速模拟退火
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